"年报揭秘：刻蚀设备市占率稳步攀升，薄膜沉积设备产品线快速扩张！"
微芯科技（603025）
动态：近期，公司公布了2023年度业绩报告，报告显示，2023年公司实现总收入为62.64亿元，同比增长32.15%；归属于母公司的净利润达到17.86亿元，同比增长52.67%；扣除非经常性损益后的净利润为11.91亿元，同比增长29.58%。在2023年第四季度，公司单季营收达到22.22亿元，同比增长30.97%，环比增长46.71%；归属于母公司的净利润为6.26亿元，同比增长66.14%，环比增长299.11%；扣除非经常性损益后的净利润为4.58亿元，同比增长66.13%，环比增长113.18%。
投资焦点：
得益于刻蚀设备的强劲销售，公司营收持续高速增长，而MOCVD设备短期面临压力。由于公司刻蚀设备市场份额的持续扩大，2023年刻蚀设备营收达到47.03亿元，同比增长49.43%，营收占比高达75%，成为推动公司营收高速增长的核心动力；受终端市场波动影响，公司MOCVD设备营收为4.62亿元，同比下降33.95%。公司2023年毛利率为45.83%，同比增长0.09%；由于出售部分拓荆科技股份有限公司股票产生税后净收益4.06亿元，非经常性损益的大幅增加使得公司2023年净利率达到28.48%，同比提升3.84%。
公司刻蚀设备竞争优势显著，预计将继续扩大市占率，新增订单的高速增长为未来业绩增长奠定基础。在CCP刻蚀设备领域，公司产品已全面覆盖28纳米及以上及以下的大部分CCP刻蚀应用；对于28纳米及以下逻辑器件生产中广泛使用的一体化大马士革刻蚀工艺，公司研发的可调节电极间距的CCP刻蚀机PrimoSD-RIE已在国内领先逻辑芯片制造客户处进行现场验证，进展顺利。在ICP刻蚀设备领域，公司的ICP刻蚀设备已在50多个客户的生产线上量产，并持续进行更多刻蚀应用的验证；公司推出的NanovaVEHP和NanovaLUX两种ICP设备，分别针对更高深宽比结构和兼顾深宽比及均匀性的需求，大幅扩展了ICP刻蚀设备的验证工艺范围；NanovaVEHP在DRAM的高深宽比多晶硅掩膜应用已获得客户认证和批量重复订单；NanovaLUX也已交付至多个客户生产线开始认证。公司凭借完整的单台和双台刻蚀设备布局、核心技术持续突破、产品迭代升级迅速、刻蚀应用广泛等优势，预计刻蚀设备将继续提升市占率。公司2023年新增订单83.6亿元，同比增长32.3%，其中刻蚀设备新增订单69.5亿元，同比增长约60.1%，新增订单的高速增长为未来业绩增长提供了保障。
薄膜沉积设备迅速扩大产品线，有望成为公司未来的业绩增长新动力。根据SEMI数据，2023年全球集成电路前段设备市场规模约950亿美元；根据Gartner数据，薄膜沉积设备占晶圆制造设备价值量的约23%，全球薄膜沉积设备市场潜力巨大。公司近两年新开发的LPCVD设备和ALD设备已有四款产品进入市场，其中三款设备已获得客户认证并开始获得重复性订单，公司计划在2024年推出超过10款新型薄膜沉积设备；公司新开发的硅和锗硅外延EPI设备、晶圆边缘Bevel刻蚀设备等多个新产品也计划在2024年投入市场验证。在现有金属CVD和ALD设备研发基础上，公司已规划多款CVD和ALD设备，公司薄膜沉积设备领域的产品线快速扩大，有望成为公司未来业绩增长的新动力。
盈利预测与投资建议。公司凭借刻蚀设备的竞争优势和未来几年成长性，预计将继续提升市占率；公司在薄膜沉积设备领域的快速产品线扩展，有望成为公司未来营收的重要增长点；公司在集成电路设备、泛半导体设备、非半导体设备领域实现三维布局，新增订单的高速增长为未来业绩增长提供了保障。我们预计公司2023-2025年营收分别为83.39/108.06/136.51亿元，归母净利润分别为20.66/26.61/33.57亿元，对应EPS分别为3.34/4.30/5.42元，对应PE分别为44.75/34.74/27.53倍。鉴于公司在刻蚀设备领域的竞争优势及未来几年的成长潜力，首次给予“买入”投资评级。
风险提示：晶圆厂扩产进度不及预期风险，行业竞争加剧风险，新产品研发进度不及预期风险，国际贸易冲突加剧风险。
