国产设备崛起加速，刻蚀设备领军企业显著受益，市场风口再起！
中微科技(688012)
投资要点
长江存储加速转向国产设备，以替代美系设备，中微科技等国内半导体设备生产商有望从中受益。
长存加速转向国产设备，刻蚀设备龙头收益显著
2024年9月20日，中微科技发布消息，宣布倪图强先生因个人原因，申请辞去公司副总经理、核心技术人员职务；杨伟先生因个人原因，申请辞去公司核心技术人员职务。辞职后，倪图强先生、杨伟先生仍在公司任职。公司认为，本次核心技术人员的变动不会对公司现有项目研发进展、持续经营能力、核心竞争力产生重大不利影响。
中微科技是国内刻蚀设备行业的领军企业，同时也在积极布局薄膜设备、检测设备，平台化建设稳步推进。截至24H1，公司发出商品余额和合同负债余额分别为27.66亿元和25.35亿元，较2023年末分别增长18.98亿元和17.64亿元。公司目前在手订单充足，预计2024年前三季度的累计新增订单将超过75亿元，同比增长超过50%；预计2024年累计新增订单将达到110-130亿元，全年付运台数将同比增长200%以上。
彭博社引用TechInsights的报道称，在美国于2022年10月限制先进半导体设备对华出口，并于2022年底将中国3DNANDFlash制造商长江存储列入实体清单近两年之后，长江存储仍在稳步发展，并已成功采用中微科技、北方华创等厂商的国产半导体设备取代部分美系半导体设备。目前长江存储已在ZhiTaiTiPlus7100BlackMythSSD中成功应用其Xtacking4.0工艺。
刻蚀设备市占率大幅提升，高深宽比技术持续精进
24H1刻蚀设备收入为26.98亿元，同比增长56.68%，营收占比提升至78.26%；新增订单39.4亿元，同比增长约50.7%。公司针对先进逻辑和存储器件制造中关键刻蚀工艺的高端产品新增付运量显著提升，CCP和ICP刻蚀设备的销售增长和在国内主要客户芯片生产线市占率均大幅提升。目前针对逻辑和存储芯片制造中最关键刻蚀工艺的多款设备已在客户产线展开验证。
CCP：截至24H1，公司累计生产付运超过3600个CCP刻蚀反应台，24H1新增付运设备数量创历史新高；其中双反应台中PrimoD-RIE/AD-RIE/AD-RIE-e24H1新增付运量超2023年全年付运量，单反应台PrimoHD-RIE/HD-RIEe/UD-RIE24H1付运量较2023年全年增加约3倍。PrimoAD-RIE-e持续付运用于最先进的逻辑芯片生产线，同时取得先进存储生产线的重复订单。PrimoSD-RIE在首家先进逻辑客户端针对金属掩膜一体化大马士革刻蚀工艺的验证进入良率测试阶段，已进入第二家客户开展现场验证；并与多家客户达成评估意向，目前实验室开发进展顺利。PrimoUD-RIE已在生产线验证出具有刻蚀≥60:1深宽比结构的量产能力。此外，公司积极布局超低温刻蚀技术，在超低温静电吸盘和新型刻蚀气体研究上投入大量资源，积极储备更高深宽比结构（≥90:1）刻蚀的前沿技术。
ICP：多款ICP设备在先进逻辑芯片、先进DRAM和3DNAND产线验证推进顺利并陆续取得客户批量订单。NanovaVEHP在DRAM制造中的的高深宽比多晶硅掩膜应用上，投入大量产。LUX逐步在多个客户的产线上实现小量产。PrimoTwinStar？则在海内外客户的成熟逻辑芯片、AR眼镜用的超透镜MetaLens等特色器件的产线上实现量产，并取得重复订单。首台Primo-TwinStar？200也付到客户端开展MetaLens的产线上认证。PrimoTSV200E？/300E？在成熟市场继续获得重复订单的同时，在12英寸的3D芯片的硅通孔刻蚀工艺上得到成功验证，并在欧洲客户新建的世界首条12英寸微机电系统芯片产线上获得认证的机会。晶圆边缘Bevel刻蚀设备完成开发，即将进入客户验证。
薄膜沉积设备：公司钨系列薄膜沉积产品可覆盖存储器件所有钨应用，并已完成多家逻辑和存储客户对CVD/HAR/ALDW钨设备的验证，
